SAL和EV Group加强光学技术研究合作

盖世汽车讯 据外媒报道，MEMS、纳米技术和半导体市场晶圆键合和光刻设备供应商EV Group（EVG）与奥地利电子系统（EBS）研究中心Silicon Austria Labs（SAL）宣布合作，SAL在其位于奥地利菲拉赫的MicroFab研发洁净室设施中接收并安装了多个EVG光刻和抗蚀剂处理系统。

图片来源：SAL

这些装置是两家公司加强合作的一部分，旨在加速异构集成应用的先进光学技术的开发和部署，包括用于微型摄像头和微镜的晶圆级光学器件、衍射光学器件以及用于用于实现自动驾驶和汽车照明的汽车光学器件。

新安装的EVG系统包括LITHOSCALE®无掩模曝光系统、EVG®7300自动化SmartNIL®纳米压印和晶圆级光学系统，以及多个互补的光刻胶处理系统。这些系统加入了SAL现有的多个EVG键合、掩模对准和光刻系统安装基础，其中包括首次安装下一代200毫米版本的EVG®150自动光刻胶处理系统，该系统可显著提高吞吐量、增强灵活性和减小占用空间（与上一代平台相比）。

此外，SAL一直与EVG总部的技术开发和应用工程团队（包括NILPhotonics®能力中心）密切合作，利用EVG的设备和工艺专业知识，开发可转移和可扩展至大批量制造的工艺。

Silicon Austria Labs微系统研究部主管Mohssen Moridi博士表示：“我们最近致力于一系列涵盖超光学、集成光子学和MEMS的尖端研发项目，需要使用先进的光刻和粘合工具。通过与EVG的合作，我们获得了具有卓越可靠性和精度的工具，这对于成功的研发工作至关重要。值得注意的是，EVG7300 SmartNI系统已成为一种关键工具，可实现新兴光子学和MEMS器件纳米结构的大规模生产。其应用扩展到智能照明系统、AR/VR、汽车光学、电信和量子技术等多个领域。”

SAL是首批接收新EVG7300系统的客户之一，而该系统是EVG最先进的解决方案，将多种基于UV的工艺功能结合到一个平台中，例如纳米压印光刻（NIL）、透镜成型和透镜堆叠（UV粘合）。EVG7300专为满足涉及微米和纳米图案以及功能层堆叠的各种新兴应用的先进研发和生产需求而开发。