光刻机出口管制再加码，对汽车行业影响今非昔比

棘手的光刻机，近期再次成为公众关注的焦点。

3月14日，光刻机板块盘中探底回升。其中金力泰大涨超10%，晶瑞电材、宝通科技大涨8%，扬帆新材、强力新材、富创精密、安集科技等涨幅靠前。

此次光刻机概念股集体上涨事出有因。报道称，消息面上，全球光刻机巨头ASML预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币超162亿元），其正在加快拓展在中国的业务和销售。

而ASML急于拓展其在华业务，主要与近期荷兰推出的最新半导体制造设备出口管制有关。这导致ASML不能自由出货，尤其是占比较大的中国市场。

图源：ASML

管制范围扩大到DUV，国内企业和ASML都不好过

当地时间3月8日，在跟美国政府达成协议1个多月后，荷兰政府以“国家安全”为由，宣布将对包括“最先进的”深紫外光刻机（DUV）在内的特定半导体制造设备实施新的出口管制。

这意味着，荷兰方面已将光刻机出口管制的范围，由极紫外光刻机（EUV）扩大到了DUV。

由于DUV仍占很大出货比重，荷兰光刻机巨头ASML很快发布声明，称该公司需要申请许可证，才能出口最先进的浸没式DUV光刻机。

目前主流光刻机主要有两种：EUV光刻机和DUV光刻机。

前者为当下光刻机最高技术，主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺，目前全球只有ASML一家可生产，2022年的出货量为40台，较2021年减少2台；后者可以制造7nm及以上制程的芯片，目前全球仅荷兰ASML和日本尼康两家可供货生产。其中，ASML占据绝对优势。

可以看出，ASML拥有极紫外（EUV）和浸没式深紫外（DUV）两种最先进的光刻技术，占据了全球市场份额的80%以上。

其中，DUV光刻机将是ASML的业务重点。这主要是因为，此前，ASML的最大利润来源是EUV光刻机，三大主要客户分别是台积电、三星和Intel。

但是，台积电因为先进工艺产能过剩而关闭了部分EUV光刻机，其在美国的5nm工厂也未大举采购EUV光刻机而是将台湾的部分EUV光刻机运往美国；三星受到先进工艺产能过剩的影响，转而发展成熟工艺，为了争取成熟工艺客户主动降低芯片代工价格一成争抢客户；2022年底，由于需求下滑，Intel传出让Intel 4工厂员工放长假的消息，所以Intel也不太可能大规模采购EUV光刻机。

图源：三星官网

如此一来，ASML会将业务重心放在DUV上。这一点，从ASML的产能规划也能看出端倪。数据显示，ASML计划到2025年将DUV光刻机的产能提升至600台。此外，由于台积电、三星等芯片巨头把注意力集中在扩大5nm、3nm等先进制程工艺，不会采购DUV光刻机这类中低端设备，那么，对DUV光刻机需求依然旺盛的中国市场就成为了ASML的主要业务对象之一。

相关数据显示，中国大陆是ASML第三大市场，2021年出货量占ASML全球出货量总量的16%，2022年ASML对中国大陆的出货量下降到全球14%。如果继续下降，ASML在中国大陆的运营状况值得考量。

更加值得注意的是，我国计划在2025年实现七成芯片自给率，如今国产芯片自给率才达到三成，芯片产能扩张规模庞大，对DUV光刻机需求极大，这是ASML急需抓住的机会。

智能化趋势下，光刻机对汽车产业的影响今非昔比

实际上，自2019年以来，ASML研发的最先进极紫外光（EUV）设备就已禁止销往中国。

中国汽车芯片产业创新战略联盟的数据显示，2019年中国汽车芯片进口率超90％。但值得注意的是，彼时，我国汽车产业还处于新能源转型时期，多数汽车芯片只需要28nm制程就可以满足。

然而时至今日，2023年是新能源汽车产业逐步转向智能化重点攻关，自2022年底，国内自动驾驶产业如雨后春笋般成长起来。激光雷达企业禾赛科技已赴美IPO；也有消息称自动驾驶企业文远知行已秘密在美国申请IPO。且甚至连此前被阴霾笼罩的国外自动驾驶企业也开始重新振作，比如Argo AI创始人创办了全新自动驾驶公司。

图源：文远知行

换言之，随着汽车行业电动化与智能化的转型，辅助驾驶功能渗透率越来越高，这些功能的实现需借助于摄像头、雷达等新增的传感器数据。车用芯片的供应压力，只会在未来成倍增长。

有汽车行业专家表示，在未来高端智能电动车领域，单车芯片搭载量将数倍增加，达到3000片以上；汽车半导体占整车物料成本比重，将从2019年的4%提升至2025年的12%，并或将在2030年提升至20%。

这不仅意味着电动智能化时代，车辆对于芯片的需求量升高，也侧面反映出车辆所需的芯片技术难度与成本快速攀升。

从技术角度看，传统汽车半导体器件至少有40种以上，单车使用总量在500-600个，其中主要包含MCU、功率半导体（IGBT、MOSFET等）、传感器和各类模拟器件，自动驾驶汽车还会用到如ADAS辅助类芯片、CIS、AI处理器、激光雷达、毫米波雷达和MEMS等一系列产品。

目前，市面上主流及高端电动车在40-45nm制程的芯片占比已经下降至45%，而45nm制程以上的芯片占比则仅为5%。40nm以下的成熟高阶制程芯片以及更先进的10nm、7nm制程芯片无疑是汽车行业新时代下的全新竞争领域，所以光刻机的先进制程芯片需求也会变得更加强烈。

也就是说，无论是EUV还是DUV，ASML被荷兰出口管制，对我国汽车芯片的影响将比以往更加严重。且有消息称，日本也会本月跟进美国新政。如今看来，我国光刻机产业孤立无援，只能依靠自己。

孤立无援，光刻机只是国产替代的缩影

生产光刻机很难，除了技术难度外，光刻机的生产复杂程度也超乎想象。据悉，随便一台光刻机内部的零部件就不少于10万个，而且这些零件还来自全球超5000家供应商。

眼下，我国光刻机产业主要向28nm及以下制造工艺攻关，并且已经取得相应进展。

据悉，2022年，上海微电子过了28nm光刻机的技术检测和认证，并最快将于2023年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机；中芯国际14nm已经基本可以量产，正在开展7nm和5nm的攻关；华为申请了“反射镜、光刻装置及控制方法”相关专利，在该光刻装置中，相干光源发出的光线经过旋转的反射镜反射后，再通过内置的照明系统分割为多个子光束并投射到掩膜版上，最后进行光刻环节。

图源：华为

值得注意的是，彼时，日经亚洲评论相关报道，华为已经将这项技术分别授权给了梅赛德斯奔驰、宝马、奥迪以及保时捷等国际知名顶级汽车品牌，此现象足以说明华为正在积极寻求另外的技术转化，这也能够在未来成为华为新增收入来源之一。

在产业链方面，也有不少相关厂商在EUV光刻机领域取得了阶段性突破：像清华攻克了光源技术壁垒，掌握了一种可以用于EUV光刻机的新光源、中科院也掌握了物镜系统技术等。

此外，由于我国芯片产业接连被限制，各国开始居安思危，开发替代EUV光刻机的技术，如NIL纳米压印；电子束光刻机(EBL)；自组装（DSA）光刻等。

不可否认的事实是，在汽车产业快速变革下，整车制造能力的竞争注定将向着全新的产业链技术储备竞争转变。如此一来，光刻机只是国产替代的一个缩影，未来将会有更多产业在国内经历从0-1，甚至从1-10的发展历程。